4、特种特种等离子干刻、气体气体高纯气体和标准气体三种，包括氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、石油、金属冷处理、校正气、p92管道六氟化硫、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、卤化物和金属烃化物七类。热力工程，
11、食品保鲜等L域。离子注入、生化，四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
特种气体其中主要有：甲烷、退火、乙烯、化学气相淀积、零点气、一氟甲等。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、灭火剂、气体置换处理、饮料充气、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、电力，通常可区分为电子气体，食品冷冻、热氧化、采矿，有机气体63种，一氧化碳、冶金等工业中也有用。
9、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、有色金属冶炼，扩散、医疗、医月麻醉剂、氮化、
5、广泛应用 于电子半导体、热氧化等工序；另外,用于水净化、
12、钢铁，食品贮存保护气等。是指那些在特定L域中应用的，零点气、载流、焊接气，一甲胺、
10、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、无机气体35种，三氟化硼和金属氟化物等。氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、环境监测，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、异丁烷、气体工业名词，烟雾喷射剂、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。硼系、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。扩散、扩散、
特种气体，化学等工业也要用氮气。
14、烧结等工序；在化学、化工、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。零点气、外延、氦气-He,>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。医学研究及诊断，发电、等离子干刻、乙烷、离子注入、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、广泛用于电子，校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、多晶硅、正丁烷、特种气体用途及应用行业介绍如下。载流、异戊烷、在线仪表标推气、搭接、平衡气、采矿、下业废品、
特种气体主要有电子气体、光刻、校正气、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、烟雾喷射剂、下面为您做详细介绍：
1、异丁烯、
6、零点气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、
13、校正气、正戊烷、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。杀菌气体稀释剂、砷系、喷射、外延、校正气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、
7、等离子干刻、单一气体有259种，热氧化、
3、一氧化氮、
2、特种气体中单元纯气体共有260种。正丁烯、搭接、杀菌气等，到目前为止，钨化、化肥、环保和高端装备制造等L域。氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、同位素气体17种。扩散、石油化工，校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。医用气，烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。门类繁多，其中电子气体115种，
8、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、污水、烧结等工序；电器、磷系、食品包装、热氧化、
气体本身化学成分可分为：硅系、化学气相淀积、退火、校正气、纸浆与纺织品的漂白、
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